復方醋酸地塞米松乳膏

哈西奈德乳膏

本品為復方制劑，每克含醋酸地塞米松0.75毫克，樟腦10毫克，薄荷腦10毫克

哈西奈德。化學名：16a，17-[(1-甲基亞乙基)雙(氧)]-11β-羥基-21-氯-9-氟孕甾-4-烯-3，20-二酮。

天津太平洋制藥有限公司

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國藥準字H12021026

國藥準字H12020812

用于局限性瘙癢癥、神經性皮炎、接觸性皮炎、脂溢性皮炎及慢性濕疹

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

皮膚外用。直接涂于患處，每日2-3次;病情較重或慢性炎癥患者，每日5-8次或遵醫囑。

外涂患處，每日早晚各一次。

對本品成分過敏者禁用

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張(尤其面部)、皮膚萎縮、萎縮紋(青少年易發生)皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應(參看注意事項)。

用于局限性瘙癢癥、神經性皮炎、接觸性皮炎、脂溢性皮炎及慢性濕疹

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

長期大量使用可繼發細菌、真菌感染、局部可發生痤瘡、酒渣樣皮炎、皮膚萎縮及毛細血管擴張，并可有瘙癢、色毒沉著、顏面紅斑、創傷愈合障礙等反應。

1.避免接觸眼睛和其他黏膜(如眼、鼻等)　　2.不宜大面積，長期使用。用藥1周后癥狀未解請咨詢醫師。　　3.用藥部位如有燒灼感、紅腫等情況應停用，并將局部藥物洗凈，必要時向醫師咨詢。　　4.如并發細菌或真菌感染，應咨詢醫生。　　5.運動員慎用。　　6.小兒避免使用。　　7.對本品過敏者慎用。　　8.本品狀態改變時慎用。　　9.請放在兒童不能接觸的地方。　　10.兒童必在成年人監護下使用。　　11.如正在使用其他藥品，使用本品前請咨詢藥師。　　12.孕婦、哺乳期婦女慎用。

1. 避免接觸眼睛和其他黏膜；2. 孕婦和哺乳期婦女慎用；3. 兒童使用需遵醫囑；4. 皮膚破損處不宜使用；5. 使用期間如出現過敏反應應立即停藥。