復方曲安奈德乳膏

哈西奈德涂膜劑

本品為復方制劑，其組份為每l克內含曲安奈德1.O毫克、制霉菌素100,000單位、硫酸新霉索(按新霉紊計)2500單位和短桿菌肽250單位。

本品主要成分及其化學名稱為：氯氟舒松。其化學名稱為：21-氯-9-氟-11β，16α，17-三羥基孕甾-4-烯-3，20-二酮環-16，17-與丙酮結合成半縮醛。其結構式為：分子式為：C24H32CIFO5分子量為：454.97

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天津金耀藥業有限公司

國藥準字H31022515

國藥準字H10910061

適用于同時伴有敏感真菌和敏感細菌感染的皮炎。

激素類藥，適用于皮膚過敏性炎癥的亞急性或慢性階段，如濕疹、異位性皮炎、接觸性皮炎等；非感染性皮膚病，如銀屑病、神經性皮炎、結節性瘙癢等。

局部外用。一日2～4次，涂擦患處。其它詳見說明書。

涂于患處，每日1～2次。

長期使用可引起局部皮膚萎縮、毛細血管擴張、痤瘡樣皮炎、毛囊炎、色素沉著及繼發感染。詳細內容見說明書。

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孕婦及哺乳期婦女用藥：尚缺乏孕婦及哺乳期婦女用藥的臨床數據。在權衡利弊情況下．盡可能避免使用。詳細內容見說明書。兒童用藥：嬰兒及兒童不宜使用。詳細內容見說明書。老年用藥：老年患者應避免長期、大量使用。

兒童注意事項： 應為面積，短期應用，一旦消退迅速停藥，一歲以內兒童盡量不用此藥。 妊娠與哺乳期注意事項： 尚無人局部用藥致畸作用的研究，妊娠期應慎用。外用經皮吸收大量時可從乳汁排泄，哺乳期慎用。 老人注意事項： 遵醫囑。

適用于同時伴有敏感真菌和敏感細菌感染的皮炎。

激素類藥，適用于皮膚過敏性炎癥的亞急性或慢性階段，如濕疹、異位性皮炎、接觸性皮炎等；非感染性皮膚病，如銀屑病、神經性皮炎、結節性瘙癢等。

本品為腎上腺皮質激素類藥物，局部外用具有抗炎、抗過敏及抗瘙癢作用。

1.應避免接觸口腔、鼻部等粘膜。 2.本品含有多種抗生素，長期使用會導致不敏感細菌和霉菌等的過量生長，而引起二重感染，故本品治療量最多不超過2周。 3.皮質類固醇激素可增加微生物感染的機會。因此，本品僅在同時伴有敏感真菌和敏感細菌感染的皮炎患者方可使用。 4.本品含有新霉素能引起腎中毒和耳中毒，對于大面積燒傷、營養性潰瘍等病人應慎用。 5.有明顯循環系統疾病的患者慎用。 6.應.避免全身大面積使用及長期使用。 8.涂藥處如有灼燒、瘙癢、紅腫時，應停止用藥。 9.請將此藥置于兒童不能觸及處。

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