復方曲安奈德乳膏

哈西奈德乳膏

本品為復方制劑，其組份為每l克內含曲安奈德1.O毫克、制霉菌素100,000單位、硫酸新霉索(按新霉紊計)2500單位和短桿菌肽250單位。

哈西奈德。

中美上海施貴寶制藥有限公司

天津金耀藥業有限公司

國藥準字H31022515

國藥準字H12020695

適用于同時伴有敏感真菌和敏感細菌感染的皮炎。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔癬、扁平苔癬、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

局部外用。一日2～4次，涂擦患處。其它詳見說明書。

外涂患處每日早晚各一次。

長期使用可引起局部皮膚萎縮、毛細血管擴張、痤瘡樣皮炎、毛囊炎、色素沉著及繼發感染。詳細內容見說明書。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張(尤其面部)、皮膚萎縮、萎縮紋(青少年易發生)、皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應(參看注意事項)。

孕婦及哺乳期婦女用藥：尚缺乏孕婦及哺乳期婦女用藥的臨床數據。在權衡利弊情況下．盡可能避免使用。詳細內容見說明書。兒童用藥：嬰兒及兒童不宜使用。詳細內容見說明書。老年用藥：老年患者應避免長期、大量使用。

孕婦及哺乳期婦女用藥：尚無人局部用藥致畸作用的研究，妊娠期應慎用。外用經皮吸收大量時可從乳汁排泄，哺乳期慎用。兒童用藥：應為小面積，短期應用，一旦消退迅速停藥，一歲以內兒童盡量不用此藥。老年用藥：尚不明確。

適用于同時伴有敏感真菌和敏感細菌感染的皮炎。

適用于接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔癬、扁平苔癬、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

1.抗炎作用：本品為局部用藥，為高效含氟和氯的皮質類固醇，具有抗炎、抗瘙癢和血管收縮作用。本品在去炎松的骨架上，以氯原子取代21位羥基，其血管收縮試驗測定抗炎效價倍數為360，已有證據認為血管收縮試驗強度與療效相一致。其抗炎止癢的作用機理是提高β受體對兒茶酸胺的反應性，通過激活腺苷環化酶使cAMP生成增多，并抑制磷酸乙酯酶使cAMP破壞減少，結果使細胞中cAMP濃度增高，同時又抑制組織胺的釋放。本品抑制大鼠和小鼠肉芽腫增生的作用與地塞米松相似。用甲醛致小鼠和大鼠后足跟腫脹法觀察，本品和地塞米松均有明顯的抑制作用，而用高5倍量的氫化可的松也無抑制作用。本品對胸腺及脾臟有明顯的減重作用。2.對各類細胞的選擇性藥理作用： 減少T淋巴細胞、單核細胞、嗜酸性粒細胞數量，抑制淋巴細胞增殖及細胞因子生成，抑制巨噬細胞分化及吞噬活性，抑制中性粒細胞粘附，降低血管內皮細胞通透性，抑制成纖維細胞增殖及膠原合成，抑制皮脂腺細胞活性。3.抗增生作用：本品具有抗有絲分裂作用，它降低DNA的轉錄，從而降低DNA的合成，也影響DNA的修復，結果使表皮變薄，尤其對膠原的合成影響最大。4.免疫抑制作用：本品通過與細胞漿

1.應避免接觸口腔、鼻部等粘膜。 2.本品含有多種抗生素，長期使用會導致不敏感細菌和霉菌等的過量生長，而引起二重感染，故本品治療量最多不超過2周。 3.皮質類固醇激素可增加微生物感染的機會。因此，本品僅在同時伴有敏感真菌和敏感細菌感染的皮炎患者方可使用。 4.本品含有新霉素能引起腎中毒和耳中毒，對于大面積燒傷、營養性潰瘍等病人應慎用。 5.有明顯循環系統疾病的患者慎用。 6.應.避免全身大面積使用及長期使用。 8.涂藥處如有灼燒、瘙癢、紅腫時，應停止用藥。 9.請將此藥置于兒童不能觸及處。

1. 避免接觸眼睛和其他黏膜；2. 孕婦和哺乳期婦女慎用；3. 兒童使用需遵醫囑；4. 皮膚破損處不宜使用；5. 使用期間如出現過敏反應應立即停藥。