復方慶大霉素膜

氨來呫諾糊劑

每片（10平方厘米）含硫酸慶大霉素1000單位、鹽酸丁卡因4毫克、醋酸地塞米松0.12毫克。

本品主要成份為氨來呫諾。

金日制藥(中國)有限公司

山東力諾制藥有限公司

國藥準字H35021425

國藥準字H20050663

適用于復發性口瘡、創傷性口腔潰瘍。

銀屑病、濕疹、神經性皮炎、異位性皮炎、接觸性皮炎、脂溢性皮炎、皮膚瘙癢癥。

取略大于潰瘍面之藥膜貼于潰瘍面上(藥膜不分正反面)，每日3～4次。

成人及12歲以上兒童，每日2次，每次12克，直接涂抹于患處。

慶大霉素可能導致耳毒性、腎毒性、過敏反應、胃腸道不適等副作用。

使用該藥物可能導致的副作用包括皮膚刺激、過敏反應、局部紅腫、瘙癢或灼熱感。

適用于復發性口瘡、創傷性口腔潰瘍。

銀屑病、濕疹、神經性皮炎、異位性皮炎、接觸性皮炎、脂溢性皮炎、皮膚瘙癢癥。

慶大霉素可能導致耳毒性、腎毒性、過敏反應、胃腸道不適等副作用。

成人及12歲以上兒童，每日2次，每次12克，直接涂抹于患處。